Nanoteknoloji Yarı İletken Proses Ultrasonik Fotorezist Püskürtme Teknolojisi

 

 

 

Nanoteknoloji yarı iletken prosesli ultrasonik fotodirenç püskürtme teknolojisi, fotodirenç ortamının yüksek-frekanslı mekanik titreşimi aracılığıyla fotodirenç damlacıkları üretir ve ardından bunları bir taşıyıcı gaz aracılığıyla alt tabakaya taşır.
Fotolitografi teknolojik bilgi birikiminde tekrarlanabilir, güvenilir ve uygulanabilir sonuçların elde edilmesini sağlamanın temel gereksinimi,{0}}alt tabaka zemininin fotorezist ile eşit şekilde kaplanmasıdır. Fotorezist normalde solventler veya sulu seçenekler içinde dağılır ve aşırı viskoziteli bir malzemedir. Proses gereksinimlerine göre, fotorezisti kaplama yöntemi olarak genellikle ultrasonik püskürtme seçilir.

 

 

 

 

 

1. Düzensiz püskürtme

Sebep:

Meme tıkalı veya aşınmış.

Ultrasonik frekans kararsız.

Püskürtme bezinin viskozitesi artık uygun değil.

Çözücü:

Memeyi temizleyin veya değiştirin.

Ultrasonik jeneratörü kalibre edin.

Malzemenin viskozitesini ayarlayın.

2. Püskürtme parçacıkları çok büyük veya çok küçük

Sebep:

Ultrasonik parametrelerin yanlış yerleştirilmesi.

Püskürtme ucu grafiği artık son teknoloji malzeme için uygun değil-.

Çözücü:

Ultrasonik frekansı ve gücü ayarlayın.

Müthiş memeyi değiştirin.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Popüler Etiketler: nanoteknoloji yarı iletken süreç ultrasonik fotodirenç püskürtme teknolojisi, Çin nanoteknoloji yarı iletken süreç ultrasonik fotodirenç püskürtme teknolojisi üreticileri, tedarikçiler, fabrika